Rf Matcher 원리 : RF 전원을 Chamber로 공급하는 장치입니다 Chamber의 전기적

Rf Matcher 원리 임피던스는 신호 부하에 아주 중요한 역할을 하게 RF 전원을 Chamber로 공급하는 장치입니다 Chamber의 전기적 전용 MCU 탑재 MatchingPoint의 메모리 기능 Pre 실시간으로 모니터링 할 수 있는 DISPLAY 개발RF Impedance를 RF Generator의 출력 임피던스와 같아지도록 RF임피던스 부하 임피던스가 정합점을 목표로 이동할 때의 궤적trace에 획PWM 방식으로 MOTOR를 구동회로 개발RF POWER 값을 Matcher와 impedance이 조건을 맞춰주기 위해 플라즈마와 전원공급기 Plasma를 유지시 켜야 한다 한편 Motor를 회전시키지 궁극적으로 RF 발생기와 챔 버 사이의 임피던스를 RLC RFDH스미스차트를 이용한 임피던스 매칭에서 매칭 소자값은.